真空电镀镀膜技术性是真空应用技术的一个主要支系。已普遍应用于电子光学、电气专业、能源、物理化学仪器设备、工程机械设备、包裝、民用产品、表面科学合理和科研等行业。
用于真空电镀镀膜的方式 具体有挥发镀、磁控溅射镀、等离子喷涂、束堆积镀和分子结构束外延性，也有化学气相沉积。
假如说真空电镀镀膜的目地是更改原材料表面的物理学特性，那麼此项技术性支配权便是真空表面解决技术性的关键组成部分。下边将详细介绍真空电镀镀膜的首要运用层面。
在电子光学中，一块光学镜片或石英石涂有一层或双层不一样成分的薄膜，这种薄膜可以越来越高反射或者非反射（即抗反射涂层），或当做一切资料的反射或电子散射原材料需要的占比。
可以制做吸收特殊光波长并电子散射另一光波长的滤光片。从大口径天文望远镜和各种激光发生器，到新建筑中采用的栀子花大飘窗涂层，都必须真空电镀镀膜技术性。
减反射涂层普遍用于拍摄和各种激光，而且是新建筑的大窗子所必须的。防反射涂层普遍用于数码相机和电视摄像机的画面。
真空电镀镀膜在电子设备中具有主要影响力。各种尺寸的承继电路。包含存储器、运算器、标示逻辑性元器件等，务必应用导电膜、绝缘层膜和防护膜。铬膜作为制造电路的掩膜。
